設備関連
クリーンルーム
半導体やディスプレイなどの精密工業製品の製造にはクリーンルームが不可欠で、製造プロセスにおける微粒子汚染提言・管理への要求はより一層高くなってきています。
弊社では3基のクリーンルームにより、徹底した埃塵管理の基、ハイレベルな半導体関連装置の製造・高精度な光学電子機器の組み立て・精密部品調整など徹底した品質管理の下に作業を行っています。
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クリーンルーム1
ISOクラス6
（Class1000）84㎡ -
クリーンルーム2
ISOクラス6
（Class1000）69㎡ -
クリーンルーム3
ISOクラス6
（Class1000）112㎡
クリーンルームの空気清浄度は、アメリカで1963年に米国連邦規格（FED-STD-209）として制定されたのが始まりで、Class100／Class1000などと0.5μm の粒子を基準とした1立法フィート中の粒子数を規定されていました。
2001年に現在の国際規格ISO14644-1に改められており、1m3中の0.1μm 以上の粒子数を規定されています。
パーティクルカウンター
製造プロセスにおける微粒子汚染を低減するため各クリーンルームのパーティクル（微粒子）を一括モニタリング・管理しています。
鉛フリー自動半田槽
鉛フリー自動半田槽によるRoHS 対応製品の製造にも対応しています。
● 自動半田付け装置 SPDⅡ-350M（千住金属工業株式会社）
● スプレーフラクサー SSF-350DXⅡ（千住金属工業株式会社）